ອາຍແກັສ laser ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບການ annealing laser ແລະ lithography gas ໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກ.ໄດ້ຮັບຜົນປະໂຫຍດຈາກການປະດິດສ້າງຂອງຫນ້າຈໍໂທລະສັບມືຖືແລະການຂະຫຍາຍພື້ນທີ່ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ, ຂະຫນາດຂອງຕະຫຼາດ polysilicon ອຸນຫະພູມຕ່ໍາຈະໄດ້ຮັບການຂະຫຍາຍຕື່ມອີກ, ແລະຂະບວນການ annealing laser ໄດ້ປັບປຸງປະສິດທິພາບຂອງ TFTs ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.ໃນບັນດາອາຍແກັສ neon, fluorine, ແລະ argon ທີ່ໃຊ້ໃນເລເຊີ excimer ArF ສໍາລັບການຜະລິດ semiconductors, neon ກວມເອົາຫຼາຍກ່ວາ 96% ຂອງທາດປະສົມຂອງກ໊າຊ laser.ດ້ວຍການປັບປຸງໃຫມ່ຂອງເທກໂນໂລຍີ semiconductor, ການນໍາໃຊ້ເລເຊີ excimer ໄດ້ເພີ່ມຂຶ້ນ, ແລະການນໍາເຕັກໂນໂລຢີການເປີດເຜີຍສອງເທົ່າໄດ້ເຮັດໃຫ້ຄວາມຕ້ອງການອາຍແກັສ neon ເພີ່ມຂຶ້ນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍໂດຍ lasers ArF excimer.ໂດຍໄດ້ຮັບຜົນປະໂຫຍດຈາກການຊຸກຍູ້ການຜະລິດອາຍແກັສພິເສດເອເລັກໂຕຣນິກໃຫ້ທ້ອງຖິ່ນ, ຜູ້ຜະລິດພາຍໃນປະເທດຈະມີຊ່ອງຫວ່າງການເຕີບໂຕດ້ານຕະຫຼາດທີ່ດີກວ່າເກົ່າ.
ເຄື່ອງ lithography ແມ່ນອຸປະກອນຫຼັກຂອງການຜະລິດ semiconductor.Lithography ກໍານົດຂະຫນາດຂອງ transistors.ການພັດທະນາການປະສານງານຂອງລະບົບຕ່ອງໂສ້ອຸດສາຫະກໍາ lithography ແມ່ນກຸນແຈສໍາລັບຄວາມກ້າວຫນ້າຂອງເຄື່ອງຈັກ lithography.ວັດສະດຸ semiconductor ທີ່ກົງກັນເຊັ່ນ photoresist, photolithography gas, photomask, ແລະອຸປະກອນການເຄືອບແລະການພັດທະນາມີເນື້ອໃນເຕັກໂນໂລຊີສູງ.ອາຍແກັສ lithography ແມ່ນອາຍແກັສທີ່ເຄື່ອງ lithography ສ້າງເລເຊີ ultraviolet ເລິກ.ອາຍແກັສ lithography ທີ່ແຕກຕ່າງກັນສາມາດຜະລິດແຫຼ່ງແສງສະຫວ່າງຂອງຄວາມຍາວຄື່ນທີ່ແຕກຕ່າງກັນ, ແລະຄວາມຍາວຂອງຄື້ນຂອງພວກມັນມີຜົນກະທົບໂດຍກົງຕໍ່ຄວາມລະອຽດຂອງເຄື່ອງ lithography, ເຊິ່ງເປັນຫນຶ່ງໃນແກນຂອງເຄື່ອງ lithography.ໃນປີ 2020, ຍອດຂາຍທັງໝົດທົ່ວໂລກຂອງເຄື່ອງຈັກ lithography ຈະມີ 413 ໜ່ວຍ, ໃນນັ້ນ ຍອດຂາຍ ASML 258 ໜ່ວຍ ກວມເອົາ 62%, ການຂາຍ Canon 122 ເຄື່ອງ ກວມເອົາ 30%, ແລະ ການຂາຍ Nikon 33 ໜ່ວຍ ກວມເອົາ 8%.
ເວລາປະກາດ: ຕຸລາ 15-2021